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硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究
定 价:35 元
丛书名:新材料研究系列丛书
作者:杜文汉 著
出版时间:2018/12/1
ISBN:9787568410304
出 版 社:江苏大学出版社
中图法分类:
O48
页码:123
纸张:胶版纸
版次:1
开本:32开
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内容简介
借助STM这个可以提供原子尺度结构和电子态的有 力工具,《硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究》对Sr/Si体系进行了深入的研究,主要 分为以下3个部分:(1)第一部分:Si(100)衬底上的 Sr/Si再构;(2)第二部分:Si(111)衬底上的Sr/Si 再构;(3)第三部分:超薄SrTiO3膜的高温晶化。
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